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高真空磁控濺射儀NE-650MH

  • 產(chǎn)品型號:NE-650MH
  • 性能特點:高真空,安全可靠,操作簡單便捷
  • 產(chǎn)品用途:磁控濺射鍍膜, 鍍 鐵, 銅,鎳 ,鎘
  • 產(chǎn)品介紹
  • 產(chǎn)品參數(shù)
NE-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是我公司研制開發(fā)的一款經(jīng)濟實用的袖珍型磁控濺射設備,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的 制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,可廣泛用于大專、科研 院所的薄膜材料研究、制備。

磁控濺射鍍膜儀原理:


濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,對陰極靶材表面進行轟擊,把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定的動能,沿一定的方向射向基體表面,在基體表面形成鍍層。濺射時產(chǎn)生的快電子在正交的電磁 場中作近似擺線運動,增加了電子行程,提高了氣體的離化率,同時高能量粒子與氣體碰撞后失去能量,基體溫度較低,在不耐溫材料上可以完成鍍膜。
儀器主機尺寸: 長 610mm×寬 420mm×高 220mm(注:含腔體總高 490mm)
工作腔室尺寸:
 
標配:玻璃腔體(高度可選):直徑 260mm×高 200mm(外尺寸)
直徑 240mm×高 200mm(內(nèi)尺寸)
選配:金屬腔體:直徑 260mm×高 270mm(外尺寸 )
直徑 210mm×高 270mm(內(nèi)尺寸)
靶頭:
 
標配:單靶
選配:雙靶(雙靶儀器主機尺寸和工作腔體尺寸會隨之增大)
靶材尺寸: 直徑 50mm×厚 3mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
靶材料: 標配一塊直徑 50mm×3mm 的銅靶(可選配多種靶材)
靶槍冷卻方式: 水冷
真空系統(tǒng): 抗沖擊渦輪分子泵,抽速為 300L/s
前級機械泵: 抽速為 4L/s,帶防返油電磁閥及油污過濾器
真空測量: 采用復合真空計監(jiān)測真空
極限真空度: 5×10-5Pa(10 分鐘可到 9×10-4Pa)


電源:


 
標配:直流恒流電源:輸入電壓:220V
輸出電壓:0-600v
輸出電流:0-1.6A
選配:射頻功率電源:功率 1000W,配射頻匹配器。
載樣臺: 直徑 200mm,可根據(jù)客戶需求定制載樣臺。
工作氣體: Ar 等惰性氣體(需自備氣瓶及減壓閥)
氣路: 濺射真空度手動調(diào)整(可選配氣體質(zhì)量流量計)
水冷: 自循環(huán)冷卻水機
電源電壓: 220V 50Hz
啟動功率 3KW
保修 貳年

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