三
等離子清洗應(yīng)用于厚膜HIC，可以有效提高鍵合、元件粘接的可靠性。對于相對成熟的鍵合、粘接工藝，等離子清洗不會大幅度提升其絕對強度(鍵合強度、粘接強度)，而等離子清洗對于厚膜HIC質(zhì)量的提升很大程度上體現(xiàn)在提高加工的一致性，使電路具有更高的可靠性，這對軍用、航空、航天等對于可靠性有較高要求的領(lǐng)域有著重要的意義。...
2024-04-26
等離子清洗過程中伴隨著物理作用與化學(xué)作用。物理作用機制是通過等離子體中的活性粒子轟擊污染物，使污染物脫離基體表面，由于粒子碰撞該過程產(chǎn)生熱效應(yīng)；化學(xué)作用機制是指高能粒子具有極高活性，接觸污染物后與污染物反應(yīng)成小顆?；蛐》肿?，反應(yīng)物多具有較好的揮發(fā)性，從而實現(xiàn)對基體的清洗。...
2024-04-16
近年來，等離子技術(shù)被廣泛用于對高分子薄膜材料的表面改性。等離子體改性相對于其它的一些改性方法，它僅僅對材料的淺表面（<10-8m）進行改性反應(yīng)，不損傷材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，對材料的整體性能幾乎不產(chǎn)生影響，尤其是力學(xué)性能，但可以明顯的改善材料表面的極性及結(jié)構(gòu)，進而改善材料的潤濕性能。...
2024-04-15
等離子體清洗根據(jù)等離子體產(chǎn)生方式不同，可以分為電暈等離子體清洗、輝光等離子體清洗、射頻等離子體清洗、介質(zhì)阻擋（DBD）等離子體清洗、微波等離子體清洗、大氣常壓等離子體（APPA）清洗。其中,電暈等離子體清洗、輝光等離子體清洗和射頻等離子體清洗一般用作低壓清等離子體清洗,而介質(zhì)阻擋等離子體清洗、微波等離子體清洗和大氣常壓等離子體弧清洗則作為常壓等離子體清洗。...
2024-04-15
等離子清洗機按照等離子發(fā)生器的激發(fā)頻率不同大致上可分為，40KHz(中頻等離子清洗機)、13.56MHz(射頻等離子清洗機)和2.54GHz(微波等離子清洗機)三種。中頻等離子清洗機，指的就是等離子發(fā)生器激發(fā)頻率為40KHz的等離子清洗機。...
2024-04-01
等離子清洗和等離子去膠都是利用等離子體技術(shù)的表面處理技術(shù)，它們在原理上有相似之處，但具體應(yīng)用和目的有所不同。前者主要用于表面的清潔和改性，而后者則主要用于去除特定的物質(zhì)，如光刻膠。在實際應(yīng)用中，應(yīng)根據(jù)具體的工藝需求選擇合適的處理技術(shù)。...
2024-03-29
根據(jù)耦合方式分類，等離子清洗機大致可以分為兩種，一種是CCP電容耦合等離子清洗機另一種是ICP電感耦合等離子清洗機。這兩種耦合方式各有優(yōu)劣。...
2024-03-28
在線式等離子清洗設(shè)備主要針對集成電路IC封裝工藝，自動將料盒里的引線框架取出并進行等離子清洗，去除材料表面污染，提高表面活性，再自動放回料盒，全程無人為干擾。...
2024-03-26
等離子清洗機漏氣可能有以下原因： 氣路部件損壞或老化：長時間使用后，氣路部件可能出現(xiàn)損壞或老化，導(dǎo)致氣路連接處不緊密，進而發(fā)生漏氣現(xiàn)象。...
2024-03-22
等離子清洗機對薄膜材料表面的刻蝕作用和在材料表面引進大量極性基團這二種因素共同作用使得處理后的薄膜材料表面的粘接性、印刷等性能得到大幅度的提高。...
2024-03-21
等離子刻蝕的基本原理是利用所需的等離子體對晶圓表面進行物理轟擊并且同時發(fā)生產(chǎn)生易于揮發(fā)的化學(xué)反應(yīng)，從而實現(xiàn)對晶圓的刻蝕過程。...
2024-03-18
氧等離子體處理親水原理可以認(rèn)為是受兩個因素的雙重影響：（1）氧等離子體對材料表面的蝕刻效應(yīng)造成了材料表面形貌在納米尺度的改變；（2）氧等離子體處理后在材料表面引入了新的基團，例如-OH、-COOH等親水基團。需注意的是通過氧等離子體轟擊進行的親水處理一般具有時效性。...
2024-03-14
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
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